扩散炉工艺优化及应用探究
产品中心 / 2024-03-07
扩散炉工艺:提高晶体质量的关键 扩散炉是半导体工艺中的重要设备,它能够将掺杂源中的杂质扩散到硅晶片中,从而形成PN结。扩散炉工艺的优化和改进是提高晶体质量的关键。本文将从不同角度介绍扩散炉工艺的相关知识。 1. 扩散炉的基本原理 扩散炉的基本原理是利用高温将掺杂源中的杂质扩散到硅晶片中,形成PN结。扩散炉的主要部件包括加热元件、反应室、控制系统等。加热元件通常采用电阻丝或者石墨加热棒,反应室则是用高温陶瓷材料制成。控制系统则负责控制加热元件的温度、反应室的气压、气体流量等参数。 2. 扩散炉中